镀膜设备
基本信息
| 申请号 | CN202023145825.2 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN214115717U | 公开（公告）日 | 2021-09-03 |
| 申请公布号 | CN214115717U | 申请公布日 | 2021-09-03 |
| 分类号 | C23C14/56（2006.01）I;H01L31/18（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 黎微明;李翔;吴兴华 | 申请（专利权）人 | 江苏微导纳米科技股份有限公司 |
| 代理机构 | 广州华进联合专利商标代理有限公司 | 代理人 | 周昭 |
| 地址 | 214000江苏省无锡市新吴区漓江路11号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型涉及一种镀膜设备，在进行异质结太阳能电池的镀膜时，第一镀膜机构、第二镀膜机构及第三镀膜机构分别实现I层、p层及n层的镀设。硅片在第一运输组件的带动匀速通过第一镀膜腔体，从而在两面形成I层；接着，基片依次进入第二镀膜腔体及第三镀膜腔体，从而得到p层及n层。在第二镀膜腔体及第三镀膜腔体内，工艺参数可单独进行调整，从而得到所需的窗口层以保证转换效率。由于硅片两侧的I层成分相同，故可以在第一镀膜腔体内同时成型。而且，I层镀膜时的工艺参数保持恒定，故多个硅片可以连续通过第一镀膜腔体，从而实现I层的连续动态的镀膜。因此，第一镀膜腔体的利用率显著提升，故上述镀膜设备的产能的以提高。 |
