PECVD双舟系统及其碎片检测方法
基本信息
| 申请号 | CN202110689218.2 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113416946A | 公开（公告）日 | 2021-09-21 |
| 申请公布号 | CN113416946A | 申请公布日 | 2021-09-21 |
| 分类号 | C23C16/52（2006.01）I;C23C16/505（2006.01）I;C23C16/458（2006.01）I;G01R19/165（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 韩方虎;陈强利;韩明新;潘景伟;冯登文;尤晨曦 | 申请（专利权）人 | 江苏微导纳米科技股份有限公司 |
| 代理机构 | 深圳市威世博知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 黎坚怡 |
| 地址 | 214000江苏省无锡市新吴区漓江路11号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本申请公开了一种PECVD双舟系统及其碎片检测方法。PECVD双舟系统包括反应腔、第一石墨舟和第二石墨舟，反应腔两端分别设有进气口和出气口，第一石墨舟和第二石墨舟设于反应腔内且沿进气口至出气口的方向排列；碎片检测方法包括：对反应腔执行抽真空处理；使气体注入反应腔内，并使反应腔内的压力保持预定压力；在第一石墨舟上施加预定电压；获得第二石墨舟上的电信号，并判断电信号是否大于第一预定值；若是，则确定第一石墨舟和第二石墨舟之间存在碎片。本申请提供的PECVD双舟系统及其碎片检测方法，能够有效检测第一石墨舟和第二石墨舟之间是否存在碎片，从而防止石墨舟内的硅片及舟片产生白色粉尘。 |
