一种光场调控系统及设计方法

基本信息

申请号 CN202010154731.7 申请日 -
公开(公告)号 CN111240013A 公开(公告)日 2020-06-05
申请公布号 CN111240013A 申请公布日 2020-06-05
分类号 G02B27/00(2006.01)I;G02B27/42(2006.01)I 分类 光学;
发明人 殷长志 申请(专利权)人 上海瑞立柯信息技术有限公司
代理机构 北京联瑞联丰知识产权代理事务所(普通合伙) 代理人 黄冠华
地址 201800上海市嘉定区南翔镇德力西路88号2座a区094室
法律状态 -

摘要

摘要 本发明公开了一种光场调控系统及设计方法,包括:一外部环境配置模块;一核心设计模块,所述核心设计模块包括基础功能单元集合模块、空间叠加函数模块和功能叠加函数模块,均应用所述空间光调制器的参数设置;以及一输出寻址矩阵模块,所述基础功能单元集合模块、空间叠加函数模块和功能叠加函数模块均输出至所述输出寻址矩阵模块。针对现有技术存在的灵活性不足、缺乏系统性光场调控功能集合软件的问题,本发明的目的在于开发光场调控软件,既能生成已知光场的寻址数据矩阵,又能生成各种未知光场的寻址数据矩阵。