一种Ta2O5陶瓷靶材及其制备方法
基本信息
| 申请号 | CN202110380106.9 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113213926A | 公开（公告）日 | 2021-08-06 |
| 申请公布号 | CN113213926A | 申请公布日 | 2021-08-06 |
| 分类号 | C04B35/495;C04B35/622;C04B35/64;C23C14/08;C23C14/34;C23C14/28 | 分类 | 水泥；混凝土；人造石；陶瓷；耐火材料〔4〕; |
| 发明人 | 刘秉宁;左宁伟;征卫星;罗文;饶晓方 | 申请（专利权）人 | 宁夏中色新材料有限公司 |
| 代理机构 | 中国和平利用军工技术协会专利中心 | 代理人 | 周玄;李智婧 |
| 地址 | 753000 宁夏回族自治区石嘴山市大武口区冶金路119号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明给出了一种Ta2O5陶瓷靶材的制备方法，包括：步骤一、将Ta(OH)5粉末依次进行低温煅烧和高温煅烧，得到Ta2O5粉末；所述低温煅烧的温度为600～750℃，低温煅烧的时间为3～6小时，低温煅烧的气氛为空气气氛；所述高温煅烧的温度为800～1200℃，高温煅烧的时间为2～8小时，高温煅烧的气氛为氧气气氛；步骤二、将去离子水和分散剂加入Ta2O5粉末中，得到Ta2O5料浆后依次进行研磨、雾化造粒、团化、模压、冷等静压和常压氧气气氛烧结，得到镀膜用的Ta2O5陶瓷靶材。本发明还给出了一种Ta2O5陶瓷靶材。本发明的Ta2O5陶瓷靶材的气孔率小、致密度高(相对密度≥99％)。 |
