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一种改善抛光片厚度散差的抛光皮

基本信息

申请号 CN202021916980.7 申请日 -
公开（公告）号 CN212794605U 公开（公告）日 2021-03-26
申请公布号 CN212794605U 申请公布日 2021-03-26
分类号 B24D13/14(2006.01)I 分类 磨削；抛光;
发明人 韩威风;韩巍巍;葛文志;邓宇 申请（专利权）人 浙江美迪凯现代光电有限公司
代理机构 杭州华知专利事务所（普通合伙） 代理人 张德宝
地址 317500浙江省台州市温岭市产学研工业园科技大道
法律状态 -

摘要

摘要 本实用新型涉及抛光技术领域，尤其涉及一种改善抛光片厚度散差的抛光皮，其特征在于，包括圆盘状的抛光皮本体，所述抛光皮本体表面均匀开设有若干由圆心指向圆周的主凹槽，且随着所述主凹槽的向外延伸，两相邻所述主凹槽之间的间距逐渐增大，所述抛光皮本体表面还开设有若干半径不等的圆环状的副凹槽，若干所述的副凹槽在所述抛光皮本体上同心设置。本实用新型通过在抛光皮本体表面开设从中心向外边缘发散的主凹槽，来增加抛光皮中心部位主凹槽的分布密度，进而增加添加到抛光皮中心部分的抛光液的量就多，进而对处于抛光皮中心处的抛光片的抛光量就有所增加，从而弥补因抛光皮线速度不同而带来的抛光厚度散差的问题。