一种抛光液用基液及其制备方法
基本信息
| 申请号 | CN201810049655.6 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN108084888A | 公开（公告）日 | 2018-05-29 |
| 申请公布号 | CN108084888A | 申请公布日 | 2018-05-29 |
| 分类号 | C09G1/02 | 分类 | 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用; |
| 发明人 | 蒋秋菊 | 申请（专利权）人 | 合肥京东方半导体有限公司 |
| 代理机构 | 大连创达专利代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 蒋秋菊;合肥京东方半导体有限公司 |
| 地址 | 116000 辽宁省大连市甘井子区金龙北路51号3-3-2 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明涉及一种抛光液用基液及其制备方法，属于精密加工领域。一种抛光液用基液的制备方法，包括下述工艺步骤：将SiO2纳米粒子进行预处理；制备共聚物溶液，将预处理所得SiO2纳米粒子溶于步骤所得共聚物溶液中，超声分散，干燥；将干燥所得SiO2纳米粒子按与介质溶剂的质量比为10:4~8分散于介质溶剂中，超声分散，得抛光液用基液。与现有技术提供的非牛顿流体相比，本发明所述方法包含了两次改性的过程，一方面保证了制备过程中二氧化硅纳米粒子具有好的分散性，另一方面在使用该非牛顿流体进行抛光时，抛光液内纳米粒子粒子簇的形成，保证了抛光效果和速率。 |
