多晶硅铸锭石英坩埚复合涂层及其制备方法与应用
基本信息
| 申请号 | CN201911342349.2 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN110952136A | 公开（公告）日 | 2020-04-03 |
| 申请公布号 | CN110952136A | 申请公布日 | 2020-04-03 |
| 分类号 | C30B28/06(2006.01)I;C30B29/06(2006.01)I | 分类 | 晶体生长〔3〕; |
| 发明人 | 朱堂龙;吴永龙;余佳佳;王宇湖 | 申请（专利权）人 | 苏州纳迪微电子有限公司 |
| 代理机构 | 苏州创元专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 范晴;顾天乐 |
| 地址 | 215000 江苏省苏州市漕湖街道春兴路45号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 一种多晶硅铸锭石英坩埚复合涂层及其制备方法与应用，属于陶瓷材料技术领域。该多晶硅铸锭石英坩埚复合涂层包括同步烘干后烧结在坩埚表面的氧化硅层和氮化硅层，氧化硅层作为粘结层连接氮化硅层与多晶硅铸锭石英坩埚。本发明中氮化硅层致密度高，能够降低采用多晶硅铸锭石英坩埚制造的硅铸锭的氧含量，减少红区，提高硅铸锭的利用率。 |
