碳化硅晶圆片抛光用抛光粉及其制备方法、抛光液专利查询专利号|摘要-满商公司网

碳化硅晶圆片抛光用抛光粉及其制备方法、抛光液

基本信息

申请号	CN201911356679.7	申请日	-
公开（公告）号	CN111073520B	公开（公告）日	2021-09-03
申请公布号	CN111073520B	申请公布日	2021-09-03
分类号	C09G1/02	分类	染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用;
发明人	刘冉;朱堂龙;陈红飞;王宇湖	申请（专利权）人	苏州纳迪微电子有限公司
代理机构	苏州创元专利商标事务所有限公司	代理人	范晴;顾天乐
地址	215000 江苏省苏州市相城区阳澄湖镇凤阳路432号8号楼东侧一、二层
法律状态	-

摘要

一种碳化硅晶圆片抛光用抛光粉及其制备方法、抛光液，属于材料抛光技术领域。该碳化硅晶圆片抛光用抛光粉制备方法，包括以下步骤：S1，分别配置A液体，微米α‑氧化铝分散液，和B液体，含偏铝酸钠的氢氧化钾水溶液；S2，在一定反应温度下，向A液体中加入B液体和盐酸，添加完B液体和盐酸后继续搅拌一段时间，得到氢氧化铝包覆微米α‑氧化铝的浆料，之后陈化处理；S3，边搅拌边向经陈化处理的浆料加入纳米α‑氧化铝粉体，添加完纳米α‑氧化铝粉体后继续搅拌一段时间，得到纳米α‑氧化铝包覆氢氧化铝包覆微米α‑氧化铝的浆料；S4，分离上述浆料并烘干，然后在高温煅烧，再经后处理得到抛光粉。本发明能够提高碳化硅晶圆片抛光效率和表面良率。