一种提高膜基结合力制备表面增强拉曼基底的方法

基本信息

申请号 CN201810077316.9 申请日 -
公开(公告)号 CN108330441A 公开(公告)日 2018-07-27
申请公布号 CN108330441A 申请公布日 2018-07-27
分类号 C23C14/06;C23C14/16;C23C14/18;C23C14/30;C23C16/40;C23C28/00;C23C16/56 分类 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
发明人 张政军;马菱薇 申请(专利权)人 广西三环高科拉曼芯片技术有限公司
代理机构 北京鸿元知识产权代理有限公司 代理人 邸更岩
地址 100084 北京市海淀区100084信箱82分箱清华大学专利办公室
法律状态 -

摘要

摘要 一种提高膜基结合力制备表面增强拉曼基底的方法,该方法首先在衬底基片上生长平整的过渡层,再在过渡层上生长银纳米棒阵列薄膜,之后在银表面均匀覆盖一层超薄的氧化物膜,最后加热上述复合纳米结构,获得具有优异膜基结合力的表面增强拉曼基底。过渡层缓解了贵金属薄膜和衬底间的不匹配因素,调节了整个膜基范围内的应力分布和原子键合。银纳米棒表面超薄的氧化层保证基底具有良好的SERS灵敏性和热稳定性。因此可以进一步加热基底,促进薄膜与衬底间原子的扩散,减少界面孔隙,提高附着力。具有优异膜基结合力的表面增强拉曼基底不易脱落,稳定性好,便于运输、储存和使用,从而使表面增强拉曼技术的实用性增强。