双端磁控溅射离子镀膜机
基本信息
| 申请号 | CN94237225.5 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN2186249Y | 公开（公告）日 | 1994-12-28 |
| 申请公布号 | CN2186249Y | 申请公布日 | 1994-12-28 |
| 分类号 | C23C14/35 | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 彭传才;魏敏;胡云慧;田雨时;刘重光;金昭廷;黄广连 | 申请（专利权）人 | 长沙国防科技大学八达薄膜电子技术研究所 |
| 代理机构 | 湖南省专利服务中心 | 代理人 | 长沙国防科技大学八达薄膜电子技术研究所 |
| 地址 | 410073湖南省长沙市国防科技大学四系 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型涉及的是一种双端磁控溅射离子镀膜机，由真空室和传输机构组成。其中真空室包括前、后锁室、溅射区、隔离区和压差室，真空室内设置有加热装置和溅射靶、偏压装置，在前锁室上开有入口，后锁室上开有出口，在真空室壁上设有穿越口。本实用新型具有长度尺寸小，从而投资小，生产节拍快，具有多种功能，既可以镀热反射玻璃，也可以镀低辐射玻璃，还可以在瓷砖、钢板上镀膜以及在有一定曲面的板上镀膜，且膜的附着力，膜厚的均匀性都明显改善，从而大大提高产品的质量。 |
