一种牙釉质辐射剂量的预测方法、系统、存储介质及终端

基本信息

申请号 CN202210087045.1 申请日 -
公开(公告)号 CN114488252A 公开(公告)日 2022-05-13
申请公布号 CN114488252A 申请公布日 2022-05-13
分类号 G01T1/02(2006.01)I 分类 测量;测试;
发明人 刘玉连;冯端宇;焦玲;胡兵;张文艺;张世全;胡晨晨;林军平;景鹏伟 申请(专利权)人 中国医学科学院放射医学研究所
代理机构 天津盈佳知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 代理人 -
地址 300192天津市南开区白堤路238号
法律状态 -

摘要

摘要 本发明属于辐射剂量估算分析技术领域,公开了一种牙釉质辐射剂量的预测方法、系统、存储介质及终端。选择与已准备的BGS基底和RIS基底一样的采样点,求得待预测样本对应点上的EPR谱图值;使用快速傅里叶变换对当前的待预测样本的EPR谱图进行降噪处理;通过改进矩阵,求得待预测样本的RIS强度;根据线性剂量响应关系,求得待预测样本的辐射剂量值。本发明计算量与原有矩阵方法持平,没有引入新的模型参数,参数数量少,拟合效果很好,拟合误差均小于1%,本发明可实现更低剂量的EPR牙釉质剂量估算,在小于0.3Gy的低剂量区内,计算所得的照射剂量值与真值相差≤16%。