一种旋转镜像靶磁控溅射设备
基本信息
| 申请号 | CN202110606855.9 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113403595A | 公开（公告）日 | 2021-09-17 |
| 申请公布号 | CN113403595A | 申请公布日 | 2021-09-17 |
| 分类号 | C23C14/35（2006.01）I;C23C14/56（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 刘晓萌 | 申请（专利权）人 | 无锡爱尔华光电科技有限公司 |
| 代理机构 | 无锡盛阳专利商标事务所（普通合伙） | 代理人 | 顾吉云;黄莹 |
| 地址 | 214000江苏省无锡市滨湖区胡埭镇金桂路7号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供一种旋转镜像靶磁控溅射设备，其大幅提升材料利用率，同时可以实现低温镀膜，扩大了衬底材料的范围。其包括：基材运输装置、磁控镀膜结构，其特征在于：所述磁控镀膜结构包括：两个具备独立磁性器件的旋转靶柱，两个所述磁性器件生成的磁场结构设置为镜像对称；所述旋转靶柱设置于所述基材运输装置上的镀膜面一侧，所述旋转靶柱的柱轴线与衬底材料在所述基材运输装置上的行进方向垂直，两个所述柱轴线彼此平行，且距离所述镀膜面距离相等；两个所述旋转靶柱之间的小于等于两个所述旋转靶柱的磁场形成的高能等离子拘束区域；两个所述旋转靶柱与所述镀膜面的距离，小于等于所述旋转靶柱形成的溅射粒子的自由程。 |
