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一种光刻工艺匀胶机匀胶腔结构

基本信息

申请号 CN202122342780.6 申请日 -
公开（公告）号 CN215940476U 公开（公告）日 2022-03-04
申请公布号 CN215940476U 申请公布日 2022-03-04
分类号 B05C11/06（2006.01）I;B05C11/10（2006.01）I;G03F7/16（2006.01）I;B05C13/02（2006.01）I 分类 一般喷射或雾化；对表面涂覆液体或其他流体的一般方法〔2〕;
发明人 马宁强;王双谋;陈涛;何舜晗 申请（专利权）人 西安派瑞功率半导体变流技术股份有限公司
代理机构 西安文盛专利代理有限公司 代理人 彭冬英
地址 710077陕西省西安市高新区锦业二路13号
法律状态 -

摘要

摘要 本实用新型涉及一种光刻工艺匀胶机匀胶腔结构，主要包括包括匀胶腔外腔体结构、匀胶头机构、支架机构，本实用新型背胶保护罩一方面起到机械防护的作用，另一方面通过注入氮气，在背胶保护罩与芯片之间形成微正压环境，氮气气流从背胶保护罩下面进入，从背胶保护罩与芯片之间的缝隙排出，对胶丝起到吹扫作用，做到了双重防护功能。配合匀胶头机构的取片和匀胶两个工作状态，通过芯片背面的保护罩机械保护和氮气保护双重保护功能，实现了芯片在匀光刻胶的过程中背胶保护功能，彻底解决了背胶玷污问题，摆脱了工艺返工，节约人工和材料，提高了工艺质量，本实用新型既可以实现涂甩光刻胶的基本功能，同时又能实现背胶防溅保护功能，达到工艺目的。