旋转式磁控圆柱靶

基本信息

申请号 CN201120382401.X 申请日 -
公开(公告)号 CN202347087U 公开(公告)日 2012-07-25
申请公布号 CN202347087U 申请公布日 2012-07-25
分类号 C23C14/35(2006.01)I 分类 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
发明人 郑锡辉;温达明;靳新军;陈春红 申请(专利权)人 苏州丰裕机械工程有限公司
代理机构 广州三环专利代理有限公司 代理人 苏州丰裕机械工程有限公司;东莞丰裕电机有限公司
地址 215131 江苏省苏州市相城经济开发区苏州丰裕机械工程有限公司
法律状态 -

摘要

摘要 本实用新型公开一种旋转式磁控圆柱靶,包括靶头及靶体,所述靶头包括安装座、空心轴、导水管、进水嘴、出水嘴及驱动机构,所述空心轴呈阶梯状结构且枢接于所述安装座上,所述导水管套接于所述空心轴内,所述导水管的上端与所述进水嘴连通,所述空心轴的上端与所述出水嘴连通,所述驱动机构安装于所述安装座上且驱动所述空心轴转动,所述靶体包括空心的靶材、靶材底座、空心的磁靴及永磁体,所述靶材上端与所述空心轴外径较大的一端螺接,下端与所述靶材底座螺接,所述永磁体内置于所述磁靴的内部,所述磁靴内置于所述靶材的内部且与所述导水管的下端可拆卸地固定。本实用新型能防止磁铁生锈、靶材侵蚀均匀、靶材更换方便。