一种电镀设备内环压合机构

基本信息

申请号 CN202121705335.5 申请日 -
公开(公告)号 CN215947434U 公开(公告)日 2022-03-04
申请公布号 CN215947434U 申请公布日 2022-03-04
分类号 C25D17/00(2006.01)I;C25D7/00(2006.01)I 分类 电解或电泳工艺;其所用设备〔4〕;
发明人 彭炜棠 申请(专利权)人 合肥新汇成微电子股份有限公司
代理机构 合肥辉达知识产权代理事务所(普通合伙) 代理人 汪守勇
地址 230000安徽省合肥市新站区合肥综合保税区内
法律状态 -

摘要

摘要 本实用新型提供一种电镀设备内环压合机构,包括:平台,所述平台的上侧设置有凸起部,所述凸起部的直径为299.7mm;晶圆片,所述晶圆片设置于所述平台的上侧且套设于凸起部的外部,所述晶圆片的内圈环直径为300.15mm,所述晶圆片的内部设置有密封圈,所述密封圈的宽度值为1.25mm,所述密封圈3的外圈直径为299mm。本实用新型提供的电镀设备内环压合机构具有通过将平台凸起部、晶圆片的内圈环尺寸和密封圈的宽度值依次设置为299.7mm、300.15mm和1.25mm,使密封圈3到硅片最边缘位置最高为1.825mm,最低为1.705,降低影响范围,控制晶圆片放置平台时的偏移量,提高电镀的成功率。