一种烧结钕铁硼磁体表面功能膜层及其制备方法
基本信息
| 申请号 | CN201911401802.2 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN111118465A | 公开（公告）日 | 2020-05-08 |
| 申请公布号 | CN111118465A | 申请公布日 | 2020-05-08 |
| 分类号 | C23C14/35;C23C14/08;C23C14/06;H01F41/02 | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 段永利;邓文宇;齐丽君;孙宝玉 | 申请（专利权）人 | 沈阳中北通磁科技股份有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 110168 辽宁省沈阳市浑南区汇泉东路8号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开一种烧结钕铁硼磁体表面功能膜层及其制备方法，包括磁体预处理工艺、磁体沉积前处理以及物理气相沉积法制备功能膜层。该功能膜层是以Al2O3层和TiN层为周期的多周期复合膜层，该功能膜层同时具有15GPa以上的硬度、良好的腐蚀防护性能和抗氧化性能。与此同时通过层和TiN层的交替沉积，避免形成贯穿单层薄膜的针孔、通孔和微裂纹等组织缺陷的出现，较好地解决了传统单层薄膜厚度难以控制的缺陷，并通过Al2O3的加入增强了磁体的耐高温氧化性。采用双层膜交替沉积，多周期组合的形式，减少了膜层内应力，增强了膜基结合力。通过在钕铁硼表面沉积功能膜层扩展了钕铁硼在高湿热及酸碱环境下的应用领域。 |
