精密曝光、涂布装备防微振基座设计方法
基本信息
| 申请号 | CN202110185407.6 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113389217A | 公开（公告）日 | 2021-09-14 |
| 申请公布号 | CN113389217A | 申请公布日 | 2021-09-14 |
| 分类号 | E02D27/44（2006.01）I;E02D15/02（2006.01）I;E02D31/08（2006.01）I | 分类 | 水利工程；基础；疏浚; |
| 发明人 | 胡明祎;王进沛;张成宇;黄伟;王菲;任毅迪;李小云;李逢林 | 申请（专利权）人 | 国机集团科学技术研究院有限公司 |
| 代理机构 | 北京华旭智信知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 吴鹏章 |
| 地址 | 100032北京市西城区太平街甲2号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供了一种精密曝光、涂布装备防微振基座设计方法，其特征在于，包括：形成用于支撑基台（10）的华夫板结构（30），其中华夫板结构（30）中形成有通孔（31）；形成基台（10），包括利用型钢钢框架（11）以及钢板形成无底面钢箱，将其翻转，进行混凝土浇筑；当混凝土面层养护达到一定强度之后，用钢板进行密封，用作底面；以及对基台（10）的上表面钢板进行环氧处理，形成环氧面层（20）。该基础可在加工工厂预制，运输至现场进行装配，具有施工过程简单便捷，基础刚性大的特点，可有效减弱曝光机或涂布机周围的环境振动影响，且便于二次利用。 |
