一种半导体元器件用真空烧结装置

基本信息

申请号 CN202021158353.1 申请日 -
公开(公告)号 CN212778578U 公开(公告)日 2021-03-23
申请公布号 CN212778578U 申请公布日 2021-03-23
分类号 F27B5/12(2006.01)I;F27B5/06(2006.01)I;F27B5/05(2006.01)I;F27D17/00(2006.01)I;F27B5/13(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I 分类 炉;窑;烘烤炉;蒸馏炉〔4〕;
发明人 周宗辉 申请(专利权)人 北京华芯微半导体有限公司
代理机构 北京维正专利代理有限公司 代理人 孙铭侦
地址 100089北京市海淀区上地信息路1号国际科技创业园2号楼1703
法律状态 -

摘要

摘要 本实用新型公开了一种半导体元器件用真空烧结装置,涉及烧结装置的技术领域。其技术要点是:包括烧结室,所述烧结室的上侧设有出烟口,所述烧结室的下端设有入料口,所述入料口的下侧设有料台,所述料台的下侧设有支撑座,所述支撑座的上端开设有滑槽,所述料台通过支撑腿滑动连接于所述滑槽内,所述支撑腿插接于所述料台的下表面,所述料台一侧的侧壁通过第一连接组件连接有第一气缸,所述料台的下表面设有第二气缸,所述第二气缸通过第二连接组件连接于所述料台。设置的料台,通过设置的第一连接组件能够将料台从一侧推到另一侧,再通过第二连接组件对料台进行升降,具有便于对料台进行移动运输的特点。