一种氧化镓晶片精细研磨液及其制备方法
基本信息
| 申请号 | CN202010996340.X | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN112322256B | 公开（公告）日 | 2021-12-28 |
| 申请公布号 | CN112322256B | 申请公布日 | 2021-12-28 |
| 分类号 | C09K3/14（2006.01）I | 分类 | 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用; |
| 发明人 | 陈政委;赵德刚;范钦明 | 申请（专利权）人 | 北京镓族科技有限公司 |
| 代理机构 | 北京维正专利代理有限公司 | 代理人 | 张瑞雪 |
| 地址 | 101300 北京市顺义区顺强路1号1幢1层102室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本申请涉及半导体材料的技术领域，具体公开了一种氧化镓晶片精细研磨液及其制备方法，所述研磨液包括氧化铝粉、水和悬浮液，所述氧化铝粉、水、悬浮液的重量比为（2‑4）：（4‑8）：（0.5‑2）；所述悬浮液包括分散剂、悬浮剂和pH调节剂，所述分散剂、悬浮剂、pH调节剂的重量比为（0.25‑1.75）：（4.5‑6.5）：（0.25‑1.75）；所述研磨液的制备方法包括混合液的制备、过滤和超声处理。利用本申请的研磨液对氧化镓晶片进行研磨，能够有效提高氧化镓晶片的研磨质量，进而提高淹了氧化镓晶片的加工质量，促进氧化镓晶片的推广应用以及相关产业的进一步地发展。 |
