一种采用磁控溅射制备的Sr3Al2O6薄膜及其方法
基本信息
| 申请号 | CN201811486615.4 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN109628900B | 公开（公告）日 | 2021-10-22 |
| 申请公布号 | CN109628900B | 申请公布日 | 2021-10-22 |
| 分类号 | C23C14/35;C23C14/08 | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 王霞;李培刚;唐为华 | 申请（专利权）人 | 北京镓族科技有限公司 |
| 代理机构 | 北京路浩知识产权代理有限公司 | 代理人 | 王文君;陈征 |
| 地址 | 100086 北京市海淀区中关村911楼512号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明涉及一种采用磁控溅射制备Sr3Al2O6薄膜及其方法，所述方法具体为：将Sr3Al2O6陶瓷靶材通过磁控溅射的方式，在衬底的温度为300℃‑850℃的生长条件下，制备Sr3Al2O6薄膜。所述方法制备过程简单，易于实施，工艺可控性强，重复性好，靶材重复使用率高，生产成本低；所制得的Sr3Al2O6薄膜，结晶性好、致密性好、表面均匀。 |
