一种用于掩膜版光阻涂布夹具的装置

基本信息

申请号 CN202021590247.0 申请日 -
公开(公告)号 CN212515343U 公开(公告)日 2021-02-09
申请公布号 CN212515343U 申请公布日 2021-02-09
分类号 G03F7/16(2006.01)I; 分类 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术〔4〕;
发明人 林伟;郑宇辰;林超;周荣梵;王伟轶 申请(专利权)人 成都路维光电有限公司
代理机构 成都行之专利代理事务所(普通合伙) 代理人 唐邦英
地址 610000四川省成都市高新区康强三路1666号
法律状态 -

摘要

摘要 本实用新型公开了一种用于掩膜版光阻涂布夹具的装置,包括主体框架,所述主体框架为矩形框,还包括挡块和垫块,所述挡块至少设置4个,所述垫块设置4个,所述垫块设置在主体框架的2个对称边上均设置有若干T形槽,所述挡块和垫块可拆卸式设置在T形槽内,主体框架同一侧上的挡块设置在2个垫块之间,4个垫块用于放置掩膜版,4个垫块分别与掩膜版的四个角相匹配,所述挡块设置在掩膜版的上方。本实用新型优点是:垫块可以根据掩膜版尺寸自由调整位置,提高了工件的灵活性和通用性;材料除具有高强度、不产尘、防静电的特点;提高了机台的利用率和降低生产成本。