一种基于AOI系统的掩模版缺陷检测方法及系统
基本信息
| 申请号 | CN202110443916.4 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113138529A | 公开（公告）日 | 2021-07-20 |
| 申请公布号 | CN113138529A | 申请公布日 | 2021-07-20 |
| 分类号 | G03F1/72（2012.01）I;G03F1/84（2012.01）I;H01L21/66（2006.01）I | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 林超;林伟;王伟轶;古朋远 | 申请（专利权）人 | 成都路维光电有限公司 |
| 代理机构 | 成都行之专利代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 喻英 |
| 地址 | 610000四川省成都市高新区康强三路1666号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种基于AOI系统的掩模版缺陷检测方法及系统，先扫描待检测的Mask基板得到Mask基板扫描图形，对Mask基板扫描图形进行初步缺陷标记获得初步缺陷点位信息；再根据初步缺陷点位信息对每个初步缺陷点位进行复检，筛选出超标假缺陷点位并判断假缺陷点位数量是否超标，若是，则根据假缺陷点位的类型进行假缺陷点位筛除；最后保留记录缺陷点位信息；本发明对Mask基板的上版位置、关键工艺参数以及设备状态等多个方面全面分析了掩模版AOI假缺陷的产生原因，并针对三类假缺陷分别提出切实有效的改善对策，整体上实现方法简单可靠，能够创造较大的经济效益。 |
