用于掩膜版光刻胶的缓存装置

基本信息

申请号 CN202020430760.7 申请日 -
公开(公告)号 CN211996679U 公开(公告)日 2020-11-24
申请公布号 CN211996679U 申请公布日 2020-11-24
分类号 B65D25/02(2006.01)I 分类 输送;包装;贮存;搬运薄的或细丝状材料;
发明人 林伟;林超;周荣梵 申请(专利权)人 成都路维光电有限公司
代理机构 成都行之专利代理事务所(普通合伙) 代理人 成都路维光电有限公司
地址 610000四川省成都市高新区康强三路1666号
法律状态 -

摘要

摘要 本实用新型公开了一种用于掩膜版光刻胶的缓存装置,包括桶体、桶盖和密封圈,桶盖上设置有进气管和进液管,桶体底部设置有出液管,所述桶盖上还设置有清洗管,清洗管伸入桶体内,清洗管伸入桶体一端的侧面上均匀布置有圆孔喷嘴,桶体底部设置有废液排出管;本实用新型通过在清洁管内通入高压的清洁药液,清洁药液再通过圆孔喷嘴喷射至桶体的内壁,将桶体内壁残留的光刻胶清洁干净,清洁后的废液再通过废液排出管排出桶体;相比于传统拆卸式的清洁方式而言,本实用新型的清洁过程无需拆卸装置,省时省力,自动化程度高,提高了工作效率,降低了清洁风险,可更好的保护设备。