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一种掩模版膜面微粒清除装置及方法

基本信息

申请号 CN202110045397.6 申请日 -
公开（公告）号 CN112387707A 公开（公告）日 2021-02-23
申请公布号 CN112387707A 申请公布日 2021-02-23
分类号 B08B5/02(2006.01)I;B08B13/00(2006.01)I 分类 清洁;
发明人 王伟轶;林伟;林超;周荣梵 申请（专利权）人 成都路维光电有限公司
代理机构 成都行之专利代理事务所（普通合伙） 代理人 林菲菲
地址 610000四川省成都市高新区康强三路1666号
法律状态 -

摘要

摘要 本发明涉及掩模版辅助装置技术领域，公开了一种掩模版膜面微粒清除装置及方法。清除装置包括支座，支座的一侧竖直设置两根立柱，两根立柱并列平行，两根立柱上均设有可沿立柱滑动的斜臂，两根斜臂悬伸端朝远离立柱方向延伸的同时朝远离支座的方向延伸，两根斜臂相对的侧面之间设有可延斜臂滑动的横杆，横杆上设置能进行检测和清楚作业的功能模块，功能模块可延横杆滑动。利用该清除装置及清除方法，在检查及清除膜面微粒时不会划伤膜面或带来微粒残留，通过镜头扫描识别、喷枪姿态调控、压力适配，实现安全、迅捷、准确地清除作业，不仅避免了膜面二次污染，还提高了产品曝光良率。