一种稀土永磁体表面快速真空镀铝方法
基本信息
| 申请号 | CN201910876814.4 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN110484887A | 公开（公告）日 | 2019-11-22 |
| 申请公布号 | CN110484887A | 申请公布日 | 2019-11-22 |
| 分类号 | C23C14/35;C23C14/16;C23C14/02 | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 王君 | 申请（专利权）人 | 合肥赉晟科技有限公司 |
| 代理机构 | 合肥市长远专利代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 段晓微 |
| 地址 | 230000 安徽省合肥市高新区玉兰大道767号机电产业园 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种稀土永磁体表面快速真空镀铝方法，将磁体基件放置在管状溅射源中部的溅射腔内，所述溅射腔内壁具有铝靶材层；将所述溅射腔进行抽真空，然后通入工艺气体到预设压强值；对管状溅射源加负压并对磁体基件加正压进行溅射镀膜，同时驱动磁体基件旋转；镀膜结束后进行降温冷却，最后取出镀膜后的产品。通过上述优化设计的稀土永磁体表面快速真空镀铝方法，通过将磁体沉浸在管状溅射源内部镀膜，大大提高镀膜效率且提高靶材的利用率，并且在镀膜同时受到等离子体中的例子轰击，提高薄膜的结合性和致密性。 |
