一种耐候性高的阻隔膜结构
基本信息
| 申请号 | CN202010619872.1 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN111775518A | 公开（公告）日 | 2020-10-16 |
| 申请公布号 | CN111775518A | 申请公布日 | 2020-10-16 |
| 分类号 | B32B9/00(2006.01)I | 分类 | 层状产品; |
| 发明人 | 胡文玮 | 申请（专利权）人 | 广东万顺科技有限公司 |
| 代理机构 | 广州知顺知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 彭志坚 |
| 地址 | 515078广东省汕头市濠江区汕头保税区万顺工业园 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提出一种耐候性高的阻隔膜结构，包括柔性基膜、底涂层、第二无机物阻隔层、无机物反应层、第一无机物阻隔层和有机物保护层，所述柔性基膜的一侧设置所述底涂层，所述底涂层相对所述柔性基膜的另一侧设置所述第二无机物阻隔层，所述第二无机物阻隔层相对所述底涂层的另一侧设置所述无机物反应层，所述无机物反应层相对所述第二无机物阻隔层的另一侧设置所述第一无机物阻隔层，所述第一无机物阻隔层相对所述无机物反应层的另一侧设置所述有机物保护层。本发明在无机物阻隔层之间夹入一无机物反应层，藉由阻挡、吸收、再阻挡之特性，达到高阻隔之效果，同时兼具生产效能。 |
