一种利用气体团簇溅射靶材引出离子束流的方法及离子源
基本信息
| 申请号 | CN201910047089.X | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN109786204B | 公开（公告）日 | 2021-01-26 |
| 申请公布号 | CN109786204B | 申请公布日 | 2021-01-26 |
| 分类号 | H01J37/34;H01J37/08;C23C14/46 | 分类 | 基本电气元件; |
| 发明人 | 曾晓梅;瓦西里·帕里诺维奇;谢尔盖·别雷赫;亚历山大·托斯托古佐夫;付德君 | 申请（专利权）人 | 宜昌后皇真空科技有限公司 |
| 代理机构 | 武汉华旭知识产权事务所 | 代理人 | 周宗贵;刘荣 |
| 地址 | 430000 湖北省武汉市武汉东湖新技术开发区光谷大道41号现代·国际设计城一期4栋14层03号C12（自贸区武汉片区） | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供了一种利用气体团簇溅射靶材引出离子束流的方法，首先利用气体团簇离子源产生气体重团簇；接着气体重团簇轰击纳米靶材，溅射出靶物质，包括单体和小团簇；最后溅射出的单体、小团簇与电子碰撞被电离成离子，离子经过电场加速并进行磁质分离获得离子束流。本发明同时提供了一种基于所述方法的气体团簇溅射固体离子源，包括由依次连通的气体团簇离子源管段、溅射室和靶材原子溅射管段组成的真空腔室，所述靶材原子溅射管段依次设有第一离化器、第一加速器、单透镜和电磁铁。本发明提供的一种利用气体团簇溅射靶材引出离子束流的方法及离子源，成本低、安全可靠、无污染，能在不使用铯和钽丝的情况下获得离子束。 |
