一种避免磁铁接触冷却水的平面靶
基本信息
申请号 | CN201620264315.1 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN205688004U | 公开(公告)日 | 2016-11-16 |
申请公布号 | CN205688004U | 申请公布日 | 2016-11-16 |
分类号 | C23C14/35(2006.01)I;C03C17/00(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
发明人 | 宋光耀;战捷 | 申请(专利权)人 | 深圳市三海科技有限公司 |
代理机构 | 深圳众鼎专利商标代理事务所(普通合伙) | 代理人 | 朱业刚;谭果林 |
地址 | 518000 广东省深圳市龙华区福城街道福民社区核电工业园5号101 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本实用新型涉及一种避免磁铁接触冷却水的平面靶,包括有靶座,靶座内部的磁铁组及磁靴;特点是:在所述靶座内部的磁铁组的外表面设置一层保护磁铁组的磁铁的隔水层。本实用新型对磁铁组外表面采用涂覆有机高分子材料(如油漆、防水胶等)或固接金属非导磁性材料(如不导磁不锈钢、铝等)设置一层隔水层,长期使用时磁铁表面的磁性变化很小甚至没有。由此,既保证了冷却效果,又解决了磁铁磁性变化的问题,有利于提高镀膜设备的稳定性。 |
