一种磁控溅射机制备渐变颜色膜的方法
基本信息
| 申请号 | CN201811082012.8 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN109023280A | 公开（公告）日 | 2018-12-18 |
| 申请公布号 | CN109023280A | 申请公布日 | 2018-12-18 |
| 分类号 | C23C14/35;C23C14/04;C23C14/54;C23C14/08;C23C14/10 | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 郭杏元;汤珅;冯红涛;战永刚 | 申请（专利权）人 | 深圳市三海科技有限公司 |
| 代理机构 | 深圳市神州联合知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 周松强 |
| 地址 | 518000 广东省深圳市龙华区福城街道福民社区核电工业园5号101 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种磁控溅射机制备渐变颜色膜的方法，包括有以下步骤：S1，光学膜系设计；S2，遮挡板的设计，根据软件模拟的光学薄膜结构的厚度变化来设计遮挡板的形状；S3，真空镀膜；S4，颜色及光学性能检验，对真空镀膜后的产品进行颜色LAB值及可见光反射率曲线、可见光透过率曲线检测，测试结果合格，则可以进行量产准备；测试结果不合格，则返回步骤S1中。使用该方法制备的渐变颜色膜过渡区颜色渐变自然，产品颜色易调节，能根据用户要求制备不同色彩和视觉效果的渐变颜色膜。相比于电子束蒸发镀膜，磁控溅射机镀制的膜层结构致密，折射率稳定，膜层光学性能更稳定，因而颜色稳定性更好。 |
