一种CVD设备背板精密研磨液、制备工艺及加工方法专利查询专利号|摘要-满商公司网

一种CVD设备背板精密研磨液、制备工艺及加工方法

基本信息

申请号	CN202110470629.2	申请日	-
公开（公告）号	CN113201285A	公开（公告）日	2021-08-03
申请公布号	CN113201285A	申请公布日	2021-08-03
分类号	C09G1/02;B24B1/00;B24B57/02	分类	染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用;
发明人	范洪发;何桥;谢磊	申请（专利权）人	安徽应友光电科技有限公司
代理机构	-	代理人	-
地址	239500 安徽省滁州市全椒县十谭现代产业园
法律状态	-

摘要

本发明公开了一种CVD设备背板精密研磨液、制备工艺及加工方法，包括0.1‑3%的有机酸、0.1‑10%金属氧化物、0.1‑5%的PH缓冲剂、0.1‑1%的缓蚀剂、1‑10%的胶体二氧化硅、去离子水，研磨液PH值为4‑4.5。具体步骤是：将20份的电子级胶体二氧化硅加入到去离子水中，其中电子级胶体二氧化硅平均粒径为120um，缓慢加入胶体二氧化硅磨料，充分搅拌30min，再加入1份酒石酸，3份过氧化氢，0.1份改性咪唑啉衍生物，分散其中后，加入PH缓冲剂三乙醇胺进行酸碱平衡，调节PH至4.2，制作成精密研磨液。通过精细研磨的方法，去除附着在背板表面的污染物，同时将部件的损耗降低到最小水平，保证背板表面再生后粗糙度与光亮度，降低设备复机颗粒污染风险。