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一种用于大尺寸CVD腔体背板表面处理的等离子抛光设备及方法

基本信息

申请号 CN202110494225.7 申请日 -
公开（公告）号 CN113231944A 公开（公告）日 2021-08-10
申请公布号 CN113231944A 申请公布日 2021-08-10
分类号 B24B29/02;B24B1/00;B24B57/02;B08B3/02;B08B3/10;C23C16/44 分类 磨削；抛光;
发明人 刘洋;向飞 申请（专利权）人 安徽应友光电科技有限公司
代理机构 - 代理人 -
地址 239500 安徽省滁州市全椒县十谭现代产业园
法律状态 -

摘要

摘要 本发明公开了一种用于大尺寸CVD腔体背板表面处理的等离子抛光设备及方法，包括平台、抛光槽、清洗槽及控制柜，所述平台顶面固接两个导轨，两个导轨上方放置有移动平台，所述移动平台底面转动连接四个导轮。本发明挂具组件内设置了两个上卡勾及两个下卡勾的间距，便于应对不同大小的工件，无需更换挂具，实用价值高，本发明中抛光槽内设置了循环系统，通过循环泵使得其内的抛光液处于流动状态，进而使得抛光液整体上下浓度均匀，不会产生浓度差，避免了因为抛光液浓度差异导致抛光表面光泽度不均匀的现象，本发明中清洗槽内采用喷头喷洗，喷洗后的水可以对工件进行浸洗，浸洗过程中，水在搅拌叶的作用下持续流动，提高了清洗质量。