一种避免交叉污染的半导体零件清洗装置专利查询专利号|摘要-满商公司网

一种避免交叉污染的半导体零件清洗装置

基本信息

申请号	CN202021941455.0	申请日	-
公开（公告）号	CN213378124U	公开（公告）日	2021-06-08
申请公布号	CN213378124U	申请公布日	2021-06-08
分类号	B08B3/02;B08B1/00;B08B13/00	分类	清洁;
发明人	何桥	申请（专利权）人	安徽应友光电科技有限公司
代理机构	-	代理人	-
地址	239500 安徽省滁州市全椒县十谭现代产业园
法律状态	-

摘要

本实用新型公开了一种避免交叉污染的半导体零件清洗装置，包括底座，底座的周边四角部位打磨成圆角，底座的中间部位顶部焊接安装第一支架，第一支架的表面等间距开设有插孔，插孔的内部插接安装横杆，横杆的两侧末端开设有轴肩，横杆的中间部位等间距开设有安装槽，安装槽的表面套接安装夹持套环，夹持套环通过螺栓锁紧，夹持套环的底部焊接安装铝条，铝条的背部螺纹安装半导体板，铝条与半导体板之间通过钛螺丝螺纹安装，半导体板的正前方悬空架接清洗装置，清洗装置的背部通过第二支架固定安置，清洗装置的背部贯穿插接安装上水口，第二支架的尾部焊接安装铁环，铁环滑动套接安装在竖杆的表面，铁环的底部固定安装气缸，气缸固定螺纹安装在圆盘的顶部。