一种TOKI设备坩埚洗净再生剂及其制备方法
基本信息
申请号 | CN202110494236.5 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN113234543A | 公开(公告)日 | 2021-08-10 |
申请公布号 | CN113234543A | 申请公布日 | 2021-08-10 |
分类号 | C11D1/52;C11D3/06;C11D3/08;C11D3/10;C11D3/20;C11D3/34;C11D3/37;C11D3/38;C11D3/60 | 分类 | 动物或植物油、脂、脂肪物质或蜡;由此制取的脂肪酸;洗涤剂;蜡烛; |
发明人 | 袁杰;何桥 | 申请(专利权)人 | 安徽应友光电科技有限公司 |
代理机构 | - | 代理人 | - |
地址 | 239500 安徽省滁州市全椒县十谭现代产业园 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本发明涉及一种TOKI设备坩埚清洗再生剂及其制备方法,解决在洗净再生过程中存在有机物无法清除干净而影响产品品质的技术难题。TOKI设备坩埚清洗再生剂由15~25份表面活性剂、30~50份水、4~6份洗涤助剂、7~9份络合剂、4~6份缓冲剂、5~7份分散剂、5~7份阻燃剂组成;将摩尔比为2~5的正十二醇和溴化亚砜溶于石油醚,再催化剂条件下边加热,边用真空泵将废气抽入碱水中,得到正十二烷基溴;将正十二烷基溴和三甲胺在有机溶剂封闭条件下加热反应,得到正十二烷基三甲基溴化铵;然后将正十二烷基三甲基溴化铵加入醋酸,在30~40℃条件下搅拌得到十二烷基三甲基乙酰胺粗制品,将该粗制品洗涤甩干干燥,得到十二烷基三甲基乙酰胺。 |
