一种钕铁硼磁体表面高结合力高耐蚀涂层的制备方法
基本信息
申请号 | CN202011583420.9 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN112725855A | 公开(公告)日 | 2021-04-30 |
申请公布号 | CN112725855A | 申请公布日 | 2021-04-30 |
分类号 | C25D5/50;C25D7/00;C25D3/22;C25D5/36 | 分类 | 电解或电泳工艺;其所用设备〔4〕; |
发明人 | 曹玉杰;吴玉程;刘友好;查善顺;李磊;黄秀莲;刘家琴;陈静武;衣晓飞 | 申请(专利权)人 | 安徽大地熊新材料股份有限公司 |
代理机构 | 合肥天明专利事务所(普通合伙) | 代理人 | 汪贵艳 |
地址 | 231500 安徽省合肥市庐江高新技术产业开发区 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本发明公开了一种钕铁硼磁体表面高结合力高耐蚀涂层的制备方法,包括以下步骤:电镀Zn镀层:采用电镀方法在预处理后的磁体表面电镀Zn镀层;激光重熔处理:采用激光重熔技术对磁体表面的Zn镀层进行处理,使Zn镀层的孔隙率为3‑4%;热处理:对激光重熔处理后的Zn镀层进行热处理。本发明能够显著降低Zn镀层的孔隙率,使Zn镀层与基体之间形成冶金结合,并有效解决磁体前处理过程中部分残留的氢离子等有害杂质,解决了传统电镀Zn镀层后在进行钝化处理所带来的环境污染问题。最终在磁体表面制备出高结合力、高耐蚀的Zn镀层。 |
