一种坩埚可移动的分子束外延用束源炉
基本信息
| 申请号 | CN202011315020.X | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN112410871A | 公开（公告）日 | 2021-02-26 |
| 申请公布号 | CN112410871A | 申请公布日 | 2021-02-26 |
| 分类号 | C30B23/02 | 分类 | 晶体生长〔3〕; |
| 发明人 | 杜鹏;龚欣;魏唯;陈峰武;王慧勇;肖慧;宁澍;陈长平 | 申请（专利权）人 | 湖南烁科晶磊半导体科技有限公司 |
| 代理机构 | 湖南兆弘专利事务所（普通合伙） | 代理人 | 徐好 |
| 地址 | 410000 湖南省长沙市高新开发区岳麓西大道1698号麓谷科技创新创业园A1栋1-1023房 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种坩埚可移动的分子束外延用束源炉，包括坩埚托架、安装法兰、设于安装法兰上侧的热屏蔽筒、设于安装法兰下侧的闸阀、设于闸阀下侧的外筒、以及用于带动坩埚托架在热屏蔽筒和外筒之间移动的升降驱动机构，所述热屏蔽筒内设有加热器，所述外筒连接有真空泵，所述升降驱动机构与所述外筒密封连接。本发明具有结构简单、成本低、可靠性高、占用空间少等优点。 |
