一种氧化镓晶体冷坩埚生长方法

基本信息

申请号 PCT/CN2019/110321 申请日 -
公开(公告)号 WO2021068153A1 公开(公告)日 2021-04-15
申请公布号 WO2021068153A1 申请公布日 2021-04-15
分类号 C30B15/36;C30B29/16 分类 晶体生长〔3〕;
发明人 TANG, HUILI;唐慧丽;XU, JUN;徐军;ZHAO, HENGYU;赵衡煜;HE, NUOTIAN;何诺天;LI, DONGZHEN;李东振;WANG, DONGHAI;王东海 申请(专利权)人 南京同溧晶体材料研究院有限公司
代理机构 - 代理人 NANJING ZHONGLV INTELLECTUAL PROPERTY AGENCY FRIM (GENERAL PARTNERSHIP);南京中律知识产权代理事务所(普通合伙)
地址 Wang Donghai,No.22, Jingang Road, Dongping Town, Lishui District, Nanjing, CN,Nanjing, Jiangsu 211211 CN
法律状态 -

摘要

摘要 本发明提供的一种氧化镓晶体冷坩埚生长方法,包括以下步骤:放置β-Ga 2O 3籽晶,堆积高纯Ga 2O 3形成原料堆;启动高频感应发生器电源,将两根石墨棒插入原料堆中;升高石墨棒的加热功率至石墨棒之间产生电火花,石墨棒起燃使周围的高纯Ga 2O 3圆球状原料熔融,形成熔体;熔体在高频感应线圈的作用下持续发热,向熔体中投入高纯Ga 2O 3圆球状原料,使充分熔化,熔体体积进一步扩大,直至籽晶与熔体充分熔接;将水冷铜管坩埚逐渐下降,晶体自籽晶处逐步向上结晶生长;降温退火。该方法工艺简单,大幅降低长晶成本;采用常压空气气氛生长晶体,有效解决了生长过程中的分解挥发问题,同时降低了对设备的耐压要求。