一种IC基板多功能化学制程装置及方法
基本信息
| 申请号 | CN202210389949.X | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN114496862B | 公开（公告）日 | 2022-07-12 |
| 申请公布号 | CN114496862B | 申请公布日 | 2022-07-12 |
| 分类号 | H01L21/67（2006.01）I;H01L21/02（2006.01）I;H01L21/027（2006.01）I;H01L21/306（2006.01）I;B01D29/35（2006.01）I;B08B3/02（2006.01）I | 分类 | 基本电气元件; |
| 发明人 | 马库斯·郎;马丁·施莱 | 申请（专利权）人 | 鑫巨（深圳）半导体科技有限公司 |
| 代理机构 | 深圳市精英专利事务所 | 代理人 | - |
| 地址 | 518000广东省深圳市前海深港合作区前湾一路1号A栋201室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种IC基板多功能化学制程装置及方法，该装置包括：单板处理加工室，所述单板处理加工室内盛有用于浸没IC基板的溶液；多功能喷嘴系统，用于IC基板的表面处理；水流喷管，用于在溶液表面形成可带走任何可能存在的微粒和/或碎屑溢流通道；过滤系统，与溢流通道连通，用于过滤溢流通道中的微粒和/或碎屑。本发明将待处理的IC基板置于单板处理加工室的溶液中；利用多功能喷嘴系统对IC基板表面进行处理并去除任何可能存在的微粒和/或碎屑；通过水流喷管形成朝向过滤系统的溢流通道带动被去除的微粒和/或碎屑朝向过滤系统流动，并通过过滤系统对流动到的微粒和/或碎屑进行过滤处理，可以有效提高对于IC基板表面处理上的效率及灵活性。 |
