一种空化器
基本信息
| 申请号 | CN202121203390.4 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN214810921U | 公开（公告）日 | 2021-11-23 |
| 申请公布号 | CN214810921U | 申请公布日 | 2021-11-23 |
| 分类号 | B01J19/24（2006.01）I;B01J19/00（2006.01）I;B01J4/00（2006.01）I | 分类 | 一般的物理或化学的方法或装置; |
| 发明人 | 马库斯·郎 | 申请（专利权）人 | 鑫巨（深圳）半导体科技有限公司 |
| 代理机构 | 深圳市精英专利事务所 | 代理人 | 武志峰 |
| 地址 | 518000广东省深圳市前海深港合作区前湾一路1号A栋201室（入驻深圳市前海商务秘书有限公司） | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种空化器，设置于蚀刻机的循环系统中，用于保持蚀刻机中的蚀刻剂溶液的浓度，蚀刻机的循环系统包括用于盛放蚀刻剂溶液的容纳池，空化器包括密封连接的混合装置和气泡破裂装置，混合装置连通容纳池的下端，气泡破裂装置连通容纳池的上端，混合装置内设有朝向气泡破裂装置的混合喷嘴，混合装置的外侧设有多个连通混合喷嘴且用于注入气体和蚀刻成分剂的注入接头，气泡破裂装置内设有使气泡发生破裂的挡板组件。本实用新型提供的空化器结构中，通过混合装置和气泡破裂装置可使得注入的气体和蚀刻成分剂充分与蚀刻剂溶液进行化学反应，具有稳定保持蚀刻机中的蚀刻剂溶液的高浓度和混合均匀的优点。 |
