一种均匀出粉的四点式喷嘴
基本信息
申请号 | CN202023083042.6 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN214782145U | 公开(公告)日 | 2021-11-19 |
申请公布号 | CN214782145U | 申请公布日 | 2021-11-19 |
分类号 | C23C24/10(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
发明人 | 任楷;李冬杰;齐欢 | 申请(专利权)人 | 天津辉锐激光科技有限公司 |
代理机构 | 天津展誉专利代理有限公司 | 代理人 | 陈欣 |
地址 | 300000天津市滨海新区(华苑产环外)海泰发展二路四号4号楼103B室 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本实用新型提供了一种均匀出粉的四点式喷嘴,涉及液相色谱技术领域,包括喷嘴主体贯通设置有激光通道,所述喷嘴主体顶部环绕所述激光通道设置有激光口连接槽,所述喷嘴主体四周倾斜设置有进粉机构和冷却机构,所述喷嘴主体底部设置有喷头,所述喷头与激光通道同轴并连通,所述进粉机构包括均匀分布在喷嘴主体四周的进粉口,所述进粉口处设置有进粉接口,输粉管道一端与所述进粉接口连通,另一端与所述出粉口连通,所述输粉管道与激光通道之间设置有冷却水道,所述冷却水道一端连通进水口,另一端连通回水口,本实用新型出粉均匀,同步送粉量大,具有良好的粉末汇聚效果和较高利用率,熔覆质量高。 |
