流体控制系统
基本信息
| 申请号 | CN201721921214.8 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN207750743U | 公开（公告）日 | 2018-08-21 |
| 申请公布号 | CN207750743U | 申请公布日 | 2018-08-21 |
| 分类号 | F17D1/04;F17D3/01 | 分类 | 气体或液体的贮存或分配; |
| 发明人 | 彭日宇;何传奇 | 申请（专利权）人 | 成都士兰半导体制造有限公司 |
| 代理机构 | 北京博讯知识产权代理事务所（特殊普通合伙） | 代理人 | 成都士兰半导体制造有限公司 |
| 地址 | 610404 四川省成都市成都金堂县淮口镇成-阿工业园士芯路9号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型涉及流体控制系统。在一方面中，公开了一种用于半导体生产设备的流体控制系统。所述半导体生产设备包括炉本体，所述炉本体包括适于在其中生成半导体层的反应腔室和适于在其中容纳旋转传动部件的旋转腔室，所述流体控制系统包括适于将工艺流体供应至所述反应腔室以生成所述半导体层的第一流体管路部分。所述流体控制系统还包括适于将保护流体供应至所述旋转腔室以保护所述旋转传动部件的第二流体管路部分。根据本实用新型，能够使旋转轴不容易腐蚀，延长了旋转轴的使用寿命，节约了设备维护成本。 |
