一种真空蒸发镀膜方法、混合物、制备光学薄膜的方法
基本信息
| 申请号 | CN201811355439.0 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN111188013A | 公开（公告）日 | 2020-05-22 |
| 申请公布号 | CN111188013A | 申请公布日 | 2020-05-22 |
| 分类号 | C23C14/24;C23C14/04;C23C14/06;C23C14/08 | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 马道远 | 申请（专利权）人 | 深圳市融光纳米科技有限公司 |
| 代理机构 | 深圳市威世博知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 钟子敏 |
| 地址 | 518000 广东省深圳市南山区粤海街道科技路一号桑达科技大厦2A18 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本申请公开了一种真空蒸发镀膜方法、混合物、制备光学薄膜的方法，所述方法包括：在真空蒸发设备中设置蒸镀材料及热传导材料；对所述蒸镀材料及热传导材料进行加热，以使得所述蒸镀材料蒸发至待成膜区域成膜，所述热传导材料留置于所述真空蒸发设备中。通过上述方式，本申请能够提高成膜表面的光洁度。 |
