一种光学薄膜颜料片的制备方法及制备装置
基本信息
申请号 | CN201811427416.6 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN111218649A | 公开(公告)日 | 2020-06-02 |
申请公布号 | CN111218649A | 申请公布日 | 2020-06-02 |
分类号 | C23C14/22(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
发明人 | 马道远 | 申请(专利权)人 | 深圳市融光纳米科技有限公司 |
代理机构 | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人 | 钟子敏 |
地址 | 518000广东省深圳市南山区粤海街道科技路一号桑达科技大厦2A18 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本发明公开了一种光学薄膜颜料片制备方法及制备装置,该方法包括:提供一颜料片基底及一比较片,所述比较片至少包括第一镀膜位、第二镀膜位;在所述第一镀膜位及所述颜料片基底上同步分别沉积第一种材料以形成各自的第一膜层,并在检测到所述第一镀膜位上的光信号强度值达到第一预设强度值时,停止沉积所述第一种材料;在所述第二镀膜位及沉积有第一膜层的所述颜料片基底上同步沉积第二种材料以形成各自的第二膜层,并在检测到所述第二镀膜位上的光信号强度值达到第二预设强度值时,停止沉积所述第二种材料;重复上述沉积所述第一种材料和所述第二种材料的过程。通过上述方式,本发明能够提高所述光学薄膜颜料片的生产效率。 |
