直流电压式化学气相沉积设备
基本信息
| 申请号 | CN201620464984.3 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN205662598U | 公开（公告）日 | 2016-10-26 |
| 申请公布号 | CN205662598U | 申请公布日 | 2016-10-26 |
| 分类号 | C23C16/503(2006.01)I;C23C16/52(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 林及人;王金明 | 申请（专利权）人 | 重庆涌阳光电有限公司 |
| 代理机构 | 北京一格知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 重庆启越涌阳微电子科技发展有限公司;重庆信合启越科技有限公司 |
| 地址 | 401332 重庆市沙坪坝区西园二路98号一期标准厂房1号楼5层2号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种直流电压式化学气相沉积设备。所述直流电压式化学气相沉积设备包括反应腔室、第一电极、第二电极、温度控制装置和两个升降装置；所述两个升降装置分别与第一电极和第二电极固定，用于控制第一电极与第二电极之间的距离；所述至少一个金属托盘设在于第二电极上；所述第一电极与直流电源电连接，所述第二电极与等离子电源接地端电连接，所述温度控制装置设在第二电极上，给第二电极加热或降温；所述反应腔室上设有用以供气的进气通道以及用以排出气体的排气通道。本实用新型直流电压式化学气相沉积设备可对碳纳米材料的成长参数进行优化。 |
