一种支撑装置及CVD反应器
基本信息
| 申请号 | CN202120891234.5 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN215365975U | 公开（公告）日 | 2021-12-31 |
| 申请公布号 | CN215365975U | 申请公布日 | 2021-12-31 |
| 分类号 | C23C16/44（2006.01）I;B25B11/00（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 朱建中;于伟华;鞠德胜;万荣群 | 申请（专利权）人 | 无锡海飞凌半导体材料有限公司 |
| 代理机构 | 深圳市精英专利事务所 | 代理人 | 李莹 |
| 地址 | 214000江苏省无锡市宜兴经济技术开发区杏里路10号宜兴光电产业园1幢201室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型实施例公开了一种支撑装置及CVD反应器，涉及产品放置架技术领域。所述支撑装置包括多个支撑柱，多个圆形骨架，第一支撑架以及第二支撑架；多个支撑柱呈圆形布置；多个圆形骨架间隔设置在多个支撑柱上；第一支撑架设置在圆形骨架内，用于支撑产品；第二支撑架设置在支撑柱上，用于固定各支撑柱。本实用新型实施例提出的支撑装置中，多个圆形骨架间隔设置在多个支撑柱上，每个圆形骨架内均设有用于支撑产品的第一支撑架，从而极大提高了空间利用率，使得支撑装置能够放置更多产品。进一步地，圆形骨架稳定性好，并且，通过第二支撑架能够更好固定支撑柱，使得支撑更加稳定，支撑性更好，有助于上下层空间的气流均匀分布。 |
