一种适用于RIE制绒后晶体硅片的表面微腐蚀清洗方法
基本信息
| 申请号 | CN201511022694.X | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN105449045B | 公开（公告）日 | 2017-03-22 |
| 申请公布号 | CN105449045B | 申请公布日 | 2017-03-22 |
| 分类号 | H01L31/18(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I;C30B33/10(2006.01)I | 分类 | 基本电气元件; |
| 发明人 | 解观超;刘金浩;上官泉元 | 申请（专利权）人 | 江西比太科技有限公司 |
| 代理机构 | 北京超凡志成知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 江西比太科技有限公司 |
| 地址 | 330096 江西省南昌市高新技术产业开发区京东大道1189号高新欧洲工业园 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供了一种适用于RIE制绒后晶体硅片的表面微腐蚀清洗方法。本发明采用BOE蚀刻液与双氧水混合溶液对RIE制绒后晶体硅片进行清洗。其中，双氧水的作用是在RIE制绒后硅片表面生成一层氧化层，BOE蚀刻液中的HF溶液与氧化层反应，实现微腐蚀的效果。BOE蚀刻液能保持溶液的酸度，从而保证溶液腐蚀速率的稳定性。本发明能够对RIE制绒后的硅片表面进行微腐蚀，既能实现去除表面损伤层和表面尖端结构的效果，又能控制RIE制绒后的硅片反射率的上升速度。本发明清洗工艺可在室温下进行，清洗效果重复性好，避免使用控温设备，节约生产成本。 |
