溅射镀膜装置
基本信息
| 申请号 | CN202111204280.4 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN114107920A | 公开（公告）日 | 2022-03-01 |
| 申请公布号 | CN114107920A | 申请公布日 | 2022-03-01 |
| 分类号 | C23C14/35（2006.01）I;C23C14/02（2006.01）I;C23C14/50（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 杨鹏 | 申请（专利权）人 | 万津实业（赤壁）有限公司 |
| 代理机构 | 华进联合专利商标代理有限公司 | 代理人 | 刘宁 |
| 地址 | 437300湖北省咸宁市赤壁市中伙光谷产业园纵5路 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明涉及一种溅射镀膜装置，包括具有容纳腔的壳体、至少两个带有磁性的喷射组件以及至少一个带有磁性的偏压组件。至少两个喷射组件沿壳体的周向固设于壳体的内侧壁，至少一个偏压组件沿壳体的周向收容于容纳腔中，每个偏压组件的磁极与一个喷射组件的磁极相反，每个偏压组件能够绕壳体的中心轴线相对于壳体旋转产生镀膜工艺所需要的负偏压。从而不需增加额外的直流电源，只在每个偏压组件经过喷射组件与壳体的中心轴的连线，并且每个偏压组件相向面对喷射组件的时候才产生镀膜工艺所需要的负偏压，达到了精准偏压以及节约电资源的目的。 |
