一种制备石墨烯薄膜的化学气相沉积设备及方法
基本信息
| 申请号 | CN201910056150.7 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN109487229A | 公开（公告）日 | 2019-03-19 |
| 申请公布号 | CN109487229A | 申请公布日 | 2019-03-19 |
| 分类号 | C23C16/26（2006.01）I; C23C16/455（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 董国材; 张祥; 张金龙 | 申请（专利权）人 | 常州碳维纳米科技有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 213000 江苏省常州市武进区腾龙路2号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种制备石墨烯薄膜的化学气相沉积设备及方法，不仅包括反应腔和布气盒，通过设置在布气盒底部的排气孔，将气体均匀分布到所述反应区中，进而均匀分布在立于所述反应区内的基片表面，提高所述基片表面沉积的薄膜的均匀性。通过先制备具有基底硅单晶的取向的金属薄膜，进而制备具有相同取向的石墨烯，所制备的石墨烯将具有单晶性质。 |
