高速溅镀装置及方法
基本信息
| 申请号 | TW097118953 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | TWI433954B | 公开（公告）日 | 2014-04-11 |
| 申请公布号 | TWI433954B | 申请公布日 | 2014-04-11 |
| 分类号 | C23C14/35;C23C14/34 | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 丹尼斯 赫拉斯 | 申请（专利权）人 | 金江水力发电集团有限公司 |
| 代理机构 | 陈长文 | 代理人 | 汉能控股集团有限公司 |
| 地址 | 中国大陆 CN | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供一种溅镀方法，其包括使一靶支撑体之一表面曝露於一靶材料流，使得该曝露导致在处於一第一位置之该靶支撑体之该表面上凝结该靶材料，并从处於一第二位置之该靶支撑体之该表面将该经凝结的靶材料溅镀至一基板，其中在该溅镀期间，处於该第二位置之该靶支撑体之该表面未曝露於该经蒸发的靶材料流。本发明亦提供一种溅镀靶单元。该溅镀方法及该溅镀靶单元能够执行不良热导体之高速溅镀。 |
