翻转装置和真空镀膜设备
基本信息
| 申请号 | CN201911181284.8 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN110760811B | 公开（公告）日 | 2021-08-06 |
| 申请公布号 | CN110760811B | 申请公布日 | 2021-08-06 |
| 分类号 | C23C14/50;C23C16/458 | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 金晨;杨卓;李建银 | 申请（专利权）人 | 北京七星华创集成电路装备有限公司 |
| 代理机构 | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 | 代理人 | 彭瑞欣;王婷 |
| 地址 | 101312 北京市顺义区天竺综合保税区竺园三街6号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供一种翻转装置和真空镀膜设备，该翻转装置包括可翻转的翻转架、相对设置在该翻转架上的两个第一夹紧机构、分别与两个第一夹紧机构连接的两个载台组件以及分别设置在两个载台组件上的两个第二夹紧机构，其中，各载台组件用于承载托盘；两个第一夹紧机构用于分别向两个载台组件的四周边缘处施加压力，以将置于两个载台组件之间的两个托盘夹紧；两个第二夹紧机构用于分别向置于两个载台组件上的两个托盘的指定位置施加压力，该指定位置为与托盘上的基片相对应的位置。本发明提供的翻转装置，其可以避免基片在翻转过程中表面受损或掉落，提高翻转夹紧的可靠性和稳定性，从而可以提高生产效率和产品质量。 |
