透明导电膜层抛光装置及其抛光方法
基本信息
| 申请号 | CN200610034900.3 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN100500377C | 公开（公告）日 | 2009-06-17 |
| 申请公布号 | CN100500377C | 申请公布日 | 2009-06-17 |
| 分类号 | B24B29/02(2006.01)I;B24B7/24(2006.01)I;B24B9/14(2006.01)I;B24B13/015(2006.01)I | 分类 | 磨削；抛光; |
| 发明人 | 金弼 | 申请（专利权）人 | 深圳新视界光电技术有限公司 |
| 代理机构 | 深圳创友专利商标代理有限公司 | 代理人 | 深圳南玻显示器件科技有限公司;宜昌南玻显示器件有限公司 |
| 地址 | 518067广东省深圳市蛇口沿山路33号南玻工业大厦 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种透明导电膜层抛光装置，包括基板固定盘、与基板固定盘相对应的抛光布固定件、抛光布和驱动机构，抛光布固定在抛光布固定件上，驱动机构用于使抛光布摩擦基板上的透明导电膜层，所采用的抛光布材质足够柔软，以使在工作压力下抛光布的和基板接触部分的弹性形变量大于0.1毫米，远远大于基板表面凹凸高度的差值。利用本发明对ITO膜层进行软抛光，不仅保证了ITO膜层在10微米*10微米范围内原子力显微镜AFM测得的粗糙度Ra、Rp-v有显著降低，而且保证ITO膜层的电阻均匀性在抛光前后差异很小，保证量产的均匀性和重复性，且简单易行。 |
